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產品介紹

Photolithography.com 提供用於實驗室應用的旋轉塗佈機、對準曝光機、顯影刻蝕装置設備。

	＜最大基板尺寸＞
	4 in. 6 in. 8 in. 12 in. 100×100mm 150×150mm	●MS-B100 ●MS-B150 ●MS-B200 ●MS-B300 ●MS-B200 (密閉型) ●MS-B300 (密閉型)
		●樣品台 (標準) ●樣品台 (定制)

對準曝光機

●MA-20
●MA-10B
●MA-60F
●M-2LF
●M-1S

顯影装置

●AD-1200
●AD-3000

刻蝕装置

●ED-1200
●ED-3000

請隨時與我們聯繫！非常感謝您訪問MIKASA，旋轉塗佈機、對準曝光機和其他光刻設備的一切都交給我們。